雷射元件應用
雷射元件應用
[ Ophir ] 峰值功率與平均功率的差異，以及如何量測
一台脈衝雷射的平均功率可能只有 1 瓦，但它的峰值功率卻可能高達 1 兆瓦 - 因此在規格說明時，了解這兩者的差異非常重要！
在這支影片中，你將學到這兩個概念究竟是什麼意思。你還會學到如何測量峰值功率，而這有時候可不是那麼簡單的事。
[ Ophir ] 能量感測器：響應時間與積分時間
幫您釐清反應時間 (Response Time) 與 積分時間 (Integration Time) 在 Ophir 熱電式智慧感測器上的差異。影片說明了感測器如何將雷射脈衝能量轉換成電壓訊號，以及不同吸收層對反應速度與重複頻率的影響。了解這些原理能幫助您正確設定測量參數，避免訊號失真或讀值不準，進而提升雷射能量量測的精準度與可靠性。
看更多
[ Ophir ] Helios Pro 工業雷射功率計概覽
Helios Pro 是 Ophir 高功率雷射測量產品組合中的最新成員，延續了 Helios Plus 的可靠性與精準度。此系列可測量高達 12kW 的工業雷射功率，且因其極短的曝光時間（最短僅 300 毫秒），無需水冷系統即可運作。
🔧 工業自動化設計特色
• 小巧防塵機身：適合工廠環境，抗污染能力強。
• 遠端控制保護蓋：提升操作安全性與便利性。
• 多種通訊協定支援：包括 PROFINET、EtherCAT、RS232 等，便於整合至現有自動化系統。
🚀 Pro 模式新功能
• 脈衝波形分析：即使雷射上升時間較慢或短時間內未穩定，也能提供更準確的測量結果。
• 快速功率檢查：特別適合現代製造環境中需要即時監控雷射功率的應用場景。
[ Ophir ] 使用鎖相放大器測量低於雜訊底限的訊號
測量飛瓦 (10-15) 到納瓦 (10-9) 範圍內的光訊號可能非常具有挑戰性。如此低的訊號水平會在典型的探測器雜訊水平中消失，並被背景光淹沒。在小頻寬 (~10 Hz) 下運作的光電二極體偵測器的本底雜訊約為 1 皮瓦 (10-12)。透過濾波或平均進一步縮小頻寬只會稍微額外降低雜訊水準。
為了顯著改善雜訊抑制，我們需要使用鎖定放大器。鎖相放大器可以將雜訊抑制提高 3 個數量級或更多。此外，它們可以提供比噪音抑制高幾個數量級的背景訊號抑制。
如何對準雷射系統
克里斯·威廉斯 (Chris Williams) 將簡要介紹對於雷射系統進行光束校準的基本知識。內容包括 Z-fold laser pattern 與 Figure 4 pattern的區別，以及如何將 Edmund Optics 的反射鏡與移動支架配合使用。
看更多
