從問題到效能：一款改變影像品質的自訂濾鏡

KolaDeep™ 案例研究：從問題到效能：一款改變影像品質的自訂濾鏡

當一位客戶帶著一個持續存在的成像問題來找我們時，我們看到了一個機會，不僅可以解決這個問題，還可以重新定義光學濾波器性能所能達到和衡量的極限。

客戶在採用雷射激發的多波段螢光成像系統中使用了一款競爭對手的濾光片（上圖紅色曲線所示）。理論上，此濾光片的性能尚可，雷射波長落在上圖中陰影所示的阻擋區域內。然而，實際結果卻令人失望：影像背景並非始終為黑色，且阻擋性能在不同儀器之間以及不同時間點之間差異顯著。

罪魁禍首是什麼？關鍵雷射波長範圍內的光密度 (OD) 值不一致，導致影像品質不可預測，雜訊水準無法接受。
 

隱藏的問題：傳統工具無法發現的問題

此濾波器的阻擋陷波非常窄且深——事實上，對於傳統的光譜儀而言，其窄而深的程度已經超出了測量範圍。而我們專有的KolaDeep ™光譜測量系統則完美解決了這個問題，它能夠獨闢蹊徑地分辨超深的阻擋陷波，即使高透射率通帶緊密相鄰也能輕鬆應對。

我們的測量結果揭示了幾個問題。例如，在 747 nm 附近存在一個明顯的阻擋峰值（見圖中的右側箭頭）。如果雷射波長與該峰值對齊，則濾光片的阻擋率僅為 OD 5。而向紅移幾個奈米後，阻擋率躍升至 OD 7，導致背景暗度增加 100 倍。這些不一致的情況存在於多個波段，並解釋了客戶遇到的成像難題。

 
Semrock解決方案：精密設計，性能卓越

為此，IDEX Health & Science 設計了一款性能卓越的 Semrock 濾光片（圖中綠色部分所示），其性能包括：

•    OD > 8在所有雷射通道中均有阻塞
•    所有九個過渡區域的邊緣都更陡峭
•    所有五個通道的通帶均更寬

這些改進意味著更明亮的螢光訊號、更深的對比度和顯著降低的背景雜訊。使用者現在可以縮短曝光時間以進行高通量成像，或延長曝光時間以檢測微弱訊號，而不會犧牲影像品質。
 

性能證明

我們測量了新製造的濾光片；請參見圖中的藍色曲線。結果如何？ OD 9 阻隔等級極高，甚至達到了我們測量系統的雜訊基底。這不僅是好，而且是卓越。

最終的驗證來自客戶：所有問題都已解決。客戶回饋，在所有應用此濾鏡的儀器上，影像亮度更高、對比度更強，且背景始終呈現深邃的黑色。

 
為什麼選擇與IDEX Health & Science合作？

這不僅是一個成功案例，更是合作的典範。我們匯集世界一流的專業技術，從設計Semrock光學濾光片、精密製造到先進測量，確保每一片濾光片都符合其嚴苛的性能指標。從概念設計到生產製造再到驗證驗證，我們與您攜手解決複雜的成像難題。無論您是致力於推動螢光成像技術的發展，還是開發新一代診斷工具，我們都能提供性能、品質和成本完美平衡的濾光片。

精準與合作並重：讓我們攜手創新。

資料來源: https://www.idex-hs.com/news-events/stories-and-features/detail/penta-band-case-study